Cluster 製程系統 □ 370 × 470mm Glass Substrate Size : □ 370 × 470 mm 。真空Robot 基板傳送。最多可達 5 個 Process Module。Cassette : 20 pcs/cassette。加熱製程P.I.D溫度控制,可多段升溫多段降溫,最高溫度 350℃ +/- 3。鍍膜製程:膜厚均勻度+/- 5% 。Barcode reader。CIM : 可連接 SCES II 。Loading Station : 與 MGV 配合。