水平連續式鍍膜設備
真空Sputter鍍膜、 Plasma Clean 、IR /Heater加熱工件
觸控屏/太陽能 玻璃鍍膜
- 產品尺寸product size : 3.5~5.5G。
- 濺鍍靶源Cathode : 圓柱或平面靶rotary Rectangular magnetron cathode。
- 膜厚均勻度film uniformity : +-5% 。
- 鍍膜材料target :金屬metallic(Mo/CuGa/In/AL/Ag)/ 非金屬non-metallic (ITO/AZO/ZnO)。
- 加熱溫度heating : substrate temperature 250°C。
- 產品尺寸product size : 3.5~5.5G。
- 濺鍍靶源Cathode : 圓柱或平面靶rotary Rectangular magnetron cathode。
- 膜厚均勻度film uniformity : +-5% 。
- 鍍膜材料target :金屬metallic(Mo/CuGa/In/AL/Ag)/ 非金屬non-metallic (ITO/AZO/ZnO。
- 加熱溫度heating : substrate temperature 250°C。
