實驗鍍膜設備系列
實驗型濺/蒸鍍膜系統
可多靶共濺鍍/亦可單獨為蒸鍍或濺鍍系統
- 機型： 直立式。
- 腔體尺寸：ψ500 * H500mm。
- 工件尺寸：100 * 100 mm。
- 真空泵： 分子泵 （Turbo Pump）。
- 濺鍍靶配置： 2吋圓形靶。最多可配3支，形成多材料共濺鍍。
- 熱阻式蒸鍍膜組。
- 材尺寸： ψ50.8 * 5 mm。
- 可加裝Heater加熱基板功能。
- 可加裝基板旋轉機構。
實驗型化學氣相沉積鍍膜系統
- 機型： 直立式。
- 腔體尺寸：ψ500 * H500mm。
- 工件尺寸：ψ200 * H500mm 。
- 真空泵： 分子泵 （Turbo Pump）。
- 加熱盤：搭配PID控制，最高溫300℃ 。
- 電漿源: RF Power Supply 。
- 可調整Showhead到熱盤間距離。
水平式多功能實驗型鍍膜系統
- 機型： 水平式。
- 工件尺寸：400*600 mm。
- 真空泵： 分子泵 （Turbo Pump）。
- 濺鍍靶配置：2支靶（最多配備4支）。
- 靶材尺寸： 125*550 mm。
- 可加裝電漿清潔模組Plasma Clean 。
- 可加裝Polycold加強水氣抽除。
- 可加裝IR加熱基板功能。
垂直式多功能實驗型鍍膜系統
- 機型： 直立式傾10度角。
- 工件尺寸：400*600 mm。
- 真空泵： 分子泵 （Turbo Pump）。
- 濺鍍靶配置： 前後各二支靶，可做雙面鍍膜。
- 靶材尺寸： 125*550 mm。
- 可加裝電漿清潔模組Plasma Clean 。
- 可加裝Polycold加強水氣抽除。
可加裝IR 加熱功能，可加熱基板
自動對位鍍膜設備
- 機型： 直立式。
- 腔體尺寸：ψ500 * H500mm。
- 工件尺寸：200 * 200 mm。
- 真空泵： 冷凍泵 （Cryo Pump）。
- 蒸鍍靶源： 依客戶需求配置。
- 真空CCD基板及Mask自動對位。
- 基板及Mask、磁鐵自動結合及脫離。
- 對位後基板旋轉鍍膜。
- 可真空內自動更換Mask。
- 工件下方及各蒸鍍源皆有Shutter。
真空加熱系統
- 機型： 直立式傾10度角。
- 工件尺寸：400*600 mm。
- 真空泵： 分子泵 （Turbo Pump）。
- 濺鍍靶配置： 前後各二支靶，可做雙面鍍膜。
- 靶材尺寸： 125*550 mm。
- 可加裝電漿清潔模組Plasma Clean 。
- 可加裝Polycold加強水氣抽除。
可加裝IR 加熱功能，可加熱基板
