連續式高溫鍍膜設備
- 產品尺寸product size : 3.5~5.5G。
- 蒸鍍源evaporation source : Linear source or point source。
- 膜厚均勻度film uniformity : +-5% 。
- 鍍膜材料 Deposition material : CuGa/In/Se 。
- 基板溫度heating : substrate temperature 550°C。
本公司致力於真空設備產品之設計研發，以先進的制程技術帶領設備不斷的精進。並秉持著追求品質、創新的信念，提供客戶更為優質設計和更高價值的產品，期能與客戶共創雙贏的未來。
浩祺國際股份有限公司
浩祺國際秉持著安全第一、品質優先、客戶至上的營運方針，以及節能減碳、綠色環保的企業良知，不斷創造企業價值。我們深信：藉由提供品質優良、效能優異、維修便利、價格合理且深具實用性、附加價值和不斷創新功能的產品給客戶，與客戶建立起長期而穩定的互動關係，以達到雙贏的目標。