直立式連續式鍍膜系統

8.Coating System 1 E1762311716980
  • 產品尺寸product size : 3.5~5.5G。
  • 濺鍍靶源Cathode : 圓柱或平面靶rotary or Rectangular magnetron cathode。
  • 膜厚均勻度film uniformity : +-5% 。
  • 鍍膜材料target :
    金屬metallic (Mo/CuGa/In/AL/Ag)/非金屬non-metallic (ITO/AZO/ZnO)。
  • 加熱溫度heating : substrate temperature 250°C。
9.2 Coating System 2
  • 產品尺寸product size : 3.5~5.5G 。
  • 線上監控on-line monitor technology。
  • 加熱溫度heating : substrate temperature 250°C 。
  • 濺鍍靶源Cathode : 圓柱或平面靶rotary or Rectangular magnetron cathode。
  • 膜厚均勻度film uniformity : +-5% 。鍍膜材料target : ITO /SiO2/Nb2O5。
本公司致力於真空設備產品之設計研發，以先進的制程技術帶領設備不斷的精進。並秉持著追求品質、創新的信念，提供客戶更為優質設計和更高價值的產品，期能與客戶共創雙贏的未來。
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